Bültmann & Gerriets
Silicide Technology for Integrated Circuits
von Lih J Chen
Verlag: Institution of Engineering & Technology
Reihe: Materials, Circuits and Device
Gebundene Ausgabe
ISBN: 978-0-86341-352-0
Erschienen am 21.12.2004
Sprache: Englisch
Format: 251 mm [H] x 188 mm [B] x 20 mm [T]
Gewicht: 726 Gramm
Umfang: 300 Seiten

Preis: 168,50 €
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Klappentext
Inhaltsverzeichnis

Silicide Technology for Integrated Circuits focuses on the task of developing and applying metal silicide technology as it emerges from the scientific to the prototype and manufacturing stages and provides guidance on the application of the latest emerging technology.




  • Chapter 1: Silicides - an introduction

  • Chapter 2: Silicide formation

  • Chapter 3: Titanium silicide technology

  • Chapter 4: Cobalt silicide technology

  • Chapter 5: Nickel silicide technology

  • Chapter 6: Light-emitting iron disilicide

  • Chapter 7: Silicide contacts for Si/Ge devices

  • Chapter 8: Silicide technology for SOI devices

  • Chapter 9: Characterisation of metal silicides


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